hírek

A fotomaszkok, más néven maszkok, létfontosságú eszközök az integrált áramkörök (IC) vagy "chipek" előállításában. Ezek az átlátszatlan felületű lemezek, amelyek lehetővé teszik a fény meghatározott mintázat szerinti átvilágítását, döntő szerepet játszanak a fotolitográfiás folyamatban, amely a félvezetőgyártás egyik legfontosabb lépése. Ebben a cikkben megvizsgáljuk, hogyan használják a fotomaszkokat az IC-k előállításához.

A félvezetőgyártás világában a fotomaszkok és az irányzékok döntő szerepet játszanak az integrált áramkörök (IC-k) gyártásában. Míg ezeket a kifejezéseket gyakran felcserélhetően használják, valójában különálló összetevőkre utalnak, amelyek meghatározott funkciókkal rendelkeznek. A fotomaszk és az irányzék közötti különbség megértése elengedhetetlen a mikroelektronikai iparban tevékenykedők számára.

A számítógéppel generált hologramok (CGH-k) forradalmasították a holográfia területét, lehetővé téve háromdimenziós képek digitális létrehozását és megjelenítését hagyományos holografikus rögzítési anyagok nélkül. Ezek a hologramok számítási algoritmusokat használnak a valós objektum által létrehozott interferencia-mintázatok szimulálására, lehetővé téve a holografikus képek előállítását, amelyek különféle technikákkal megjeleníthetők. Ebben a cikkben megvizsgáljuk a számítógéppel generált hologram létrehozásának alapvető lépéseit, különös tekintettel a Fourier-alapú hologramokra, amelyek a CGH-k fontos osztályát képviselik.

A modern technológia folyamatosan fejlődő táján a precizitás és a pontosság a különböző iparágakban kiemelt fontosságúvá vált. Itt lép be a Machine Vision Calibration Board (MVCB), amely kulcsfontosságú szerepet játszik abban, hogy a kamerák, videokamerák, lézeres távolságmérők, radarok és egyéb látásalapú berendezések optimális szinten működjenek.