Hír

A filmes fotomaszkok létfontosságú szerepet játszanak a modern optikai gyártásban, a félvezető mintázatban, a PCB fejlesztésben és a különféle mikrogyártási folyamatokban. Nagy pontosságú mintahordozóként szolgálnak, lehetővé téve a pontos fényalapú képalkotást vagy maratást különböző hordozókon. Ebben a cikkben elmagyarázom, hogyan működik a filmes fotómaszk, miért fontos, és milyen műszaki paraméterek teszik megbízhatóvá a Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. megoldásait. A tiszta szerkezet, a könnyen olvasható nyelvezet és a professzionális mélység mindvégig megmarad.

Az optikai metrológia gyorsan fejlődő területén a CGH Cylinder Nulls nélkülözhetetlen eszközzé vált a hengeres és aszférikus felületek precíziós teszteléséhez és kalibrálásához. Az összetett mechanikai beállítások számítógép által generált holográfiával (CGH) való helyettesítésével ezek a nullkorrektorok rendkívül pontos felületellenőrzést tesznek lehetővé csúcskategóriás optikai rendszerekben, például teleszkópokban, kameralencsékben és félvezető-ellenőrző műszerekben. Ez a cikk feltárja, hogyan, miért és mi teszi a CGH Cylinder Nulls-t létfontosságúvá a mikron alatti pontosságot és költséghatékony tesztelési megoldásokat kereső iparágak számára, ugyanakkor kiemeli a Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., a terület vezető gyártója szakmai kiválóságát.

A CGH nulla korrektorok (számítógép által generált hologram nulla korrektorok) fejlett optikai tesztelő eszközök, amelyeket a precíziós optikai rendszerek, például aszférikus és szabad formájú lencsék vagy tükrök aberrációinak mérésére és korrigálására használnak.

A Film Photomask egy integrált áramköri lapkagyártáshoz használt mesterlemez, amely releváns információkat tartalmaz az integrált áramkör tervezési elrendezéséről. Az ostyagyártási folyamat során a Film Photomask mintázatát a mintaátvitel elérése érdekében számos folyamaton keresztül, például fotorezisztens bevonattal, expozícióval és előhívással viszik át a megvilágított hordozóanyagra.

A Photomask, más néven fénymaszk, fotomaszk vagy fotolitográfiai maszk, a mikroelektronikai gyártás fotolitográfiai folyamatában használt mesterminta. Ennek részletes bemutatása a következő:

Amikor az Egyesült Államok tarifakiigazítására reagál, az optikai iparnak többdimenziós stratégiai intézkedéseket kell elfogadnia a költségnyomás kiegyensúlyozása, a piaci részesedés fenntartása és az ipari korszerűsítés előmozdítása érdekében. A következő a konkrét stratégia elemzése: