Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
hírek

hírek

Örömmel osztjuk meg Önnel munkánk eredményét, céges híreinket, és időben tájékoztatást adunk a fejleményekről, a személyi kinevezési és eltávolítási feltételekről.
Hogyan kell elolvasni az 1951-es USAF felbontásteszt táblázatát?17 2024-07

Hogyan kell elolvasni az 1951-es USAF felbontásteszt táblázatát?

Az 1951-es USAF (Egyesült Államok Légiereje) felbontásteszt diagramja az optika és a képalkotás területén használt létfontosságú eszköz a különféle képalkotó rendszerek, köztük a kamerák, mikroszkópok, teleszkópok és még az emberi szem felbontóképességének felmérésére is. Ez az USAF által 1951-ben tervezett diagram a térbeli felbontás mérésének iparági szabványává vált, és széles körben elismert pontosságáról és sokoldalúságáról. Ebben a cikkben az 1951-es USAF felbontásteszt táblázata olvasásának és értelmezésének bonyolultságába fogunk beleásni.
A gépi látás kalibráló tábla nélkülözhetetlen szerepe17 2024-07

A gépi látás kalibráló tábla nélkülözhetetlen szerepe

A modern tudomány és technológia folyamatosan fejlődő világában a precizitás és a pontosság a különböző iparágakban az innovációt meghatározó legfontosabb tényezőkké vált. Az egyik kulcsfontosságú eszköz, amely biztosítja ezeknek a szabványoknak a betartását, a gépi látás kalibráló tábla. Ez a speciális mintatábla sarokkőként szolgál számos berendezés kalibrálásához és méréséhez, beleértve a kamerákat, videokamerákat, lézeres távolságmérőket, radarokat és egyebeket.
Mire használható az optikai célpont?16 2024-07

Mire használható az optikai célpont?

Az optika területén a precizitás és a pontosság a legfontosabb. Legyen szó a teleszkóp lencséjének éles fókuszáról, a lézer kalibrálásáról a precíz vágás érdekében, vagy az orvosi képalkotás bonyolult részleteinek rögzítéséről, az optikai rendszer teljesítményének minden aspektusa alapos méréseken és beállításokon múlik. Itt jön képbe az optikai célpont, egy sokoldalú és nélkülözhetetlen eszköz.
Mi a különbség a Photomask és az ostya között?16 2024-07

Mi a különbség a Photomask és az ostya között?

A mikroelektronikai gyártás bonyolult világában a fotomaszkok és ostyák kulcsszerepet töltenek be, de a tágabb gyártási folyamaton belül eltérő célokat szolgálnak. A két kritikus komponens közötti alapvető különbségek megértése elengedhetetlen a modern félvezetőgyártás bonyolultságának megértéséhez.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept