A precíziós mérések és műszerek területén az Optical Glass Line Vonalzó a játékot megváltoztató eszközként jelent meg, amely a pontosság és a megbízhatóság határait feszegeti. Ez az innovatív eszköz kihasználja az optikai üveg páratlan tisztaságát és méretstabilitását, hogy olyan vonalzót hozzon létre, amely új mércét állít fel a linearitás, az ismételhetőség és a tartósság terén.
Az optikai képalkotó rendszerek területén a műszer felbontóképességének pontos felmérése a legfontosabb. Ennek az igénynek a kielégítésére az Egyesült Államok Légiereje (USAF) 1951-ben úttörő eszközt dolgozott ki a MIL-STD-150A szabvány szerint: az 1951-es USAF felbontásteszt táblázatot. Ez a mikroszkopikus optikai felbontást vizsgáló eszköz azóta mindenütt mércévé vált a különböző képalkotó rendszerek tisztaságának és részletrögzítő képességének értékeléséhez.
A precíziós optikai metrológia területén a számítógéppel generált hologramok (CGH) hatékony eszközzé váltak az összetett optikai felületek tesztelésére és mérésére. Ezek közül a CGH Cylinder Nulls jelentős figyelmet kapott a hengeres felületek pontos értékelésére való képességük miatt. Ez a cikk a CGH Cylinder Nulls elveit, kialakítását és alkalmazásait tárja fel, hangsúlyozva az optikai tesztelési képességek fejlesztésében betöltött szerepüket.
A számítógéppel generált hologramok (CGH) forradalmasították az optikai tesztelés területét, különösen az aszférikus felületek mérésében. A különböző CGH technikák közül a CGH null korrektorok döntő szerepet játszanak a nagy pontosság és megbízhatóság biztosításában. Ez a cikk a CGH nullkorrektorok alapelveivel, tervezési szempontjaival és alkalmazásaival foglalkozik, hangsúlyozva jelentőségüket a precíziós optikai tesztelésben.
A fotomaszkok, más néven maszkok, létfontosságú eszközök az integrált áramkörök (IC) vagy "chipek" előállításában. Ezek az átlátszatlan, átlátszó területekkel rendelkező lemezek, amelyek lehetővé teszik a fény meghatározott mintázat szerinti átvilágítását, döntő szerepet játszanak a fotolitográfiás folyamatban, amely a félvezetőgyártás egyik legfontosabb lépése. Ebben a cikkben megvizsgáljuk, hogyan használják a fotomaszkokat az IC-k előállításához.
A félvezetőgyártás világában a fotomaszkok és az irányzékok döntő szerepet játszanak az integrált áramkörök (IC-k) gyártásában. Míg ezeket a kifejezéseket gyakran felcserélhetően használják, valójában különálló összetevőkre vonatkoznak, amelyek meghatározott funkciókkal rendelkeznek. A fotomaszk és az irányzék közötti különbség megértése elengedhetetlen a mikroelektronikai iparban tevékenykedők számára.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy