Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Termékek
4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk
  • 4 hüvelykes fotómaszk4 hüvelykes fotómaszk

4 hüvelykes fotómaszk

Professzionális, kiváló minőségű 4 hüvelykes fotómaszk gyártóként biztos lehet benne, hogy gyárunkból vásárol 4 hüvelykes fotómaszkot. A kalibrációs táblák fejlesztése során a Zhixing hosszú távú együttműködést tartott fenn számos jól ismert hazai és külföldi vállalkozással.

A Zhixing gazdag tapasztalattal rendelkezik a 4 hüvelykes fotómaszk gyártásában, saját feldolgozó- és gyártási gyárunk van, az ár kedvező, és támogatjuk a különböző méretek testreszabását, miközben biztosítjuk a nagy pontosságot, hogy megfeleljen az ügyfelek minden követelményének, üdvözöljük a konzultáción, várom, hogy együtt dolgozhassunk.


A 4 hüvelykes Photomask egy nagyon fontos eszköz az optikai iparban, amelyet elsősorban az optikai eszközök gyártási és gyártási folyamataiban használnak. A maszk változat alkalmazási köre nagyon széles, számos területet lefed, mint például az elektronika, a félvezetők, az optika és a kémia. A 4 Inch Photomask technológia mikron szintű gyártási pontosság és kiváló minőségű sablonok előállítását teszi lehetővé, ami fontos támpontot jelent az optikai ipar fejlődéséhez.


Az elektronika területén a maszkos változatot elsősorban különféle mikroelektronikai alkatrészek gyártására használják elektronikai termékekben, mint például tranzisztorok, integrált áramkörök, LED chipek és így tovább. A maszklemezes technológiával mikron szintű gyártási pontosság érhető el, finomabbá és hatékonyabbá téve az elektronikai alkatrészek gyártási folyamatát, valamint nagymértékben javítva az elektronikai ipar gyártási kapacitását és termékminőségét.


A félvezetőiparban a 4 hüvelykes Photomask szintén nélkülözhetetlen eszköz. A félvezető chip a modern tudomány és technológia egyik alapeleme, a maszklemez pedig nélkülözhetetlen gyártási eszköz a félvezető chipek gyártási folyamatában. A 4 hüvelykes Photomask megvalósíthatja a félvezető chipek "helyi" feldolgozását és növekedését, hatékonyabbá és finomabbá téve a félvezető chipek gyártását, valamint javítja a félvezetőipar gyártási kapacitását és termékminőségét.


Az optikai iparban a maszkos változatot főként nagy pontosságú optikai eszközök, például napelemek, optikai védőfóliák és így tovább gyártására használják. A maszklemez technológia lehetővé teszi az optikai eszköz alakjának, méretének, vastagságának és egyéb paramétereinek finom szabályozását, kiváló minőségű optikai eszközöket állíthat elő, és egyre erősebbé teheti az optikai ipart.


A maszklemez technológiát a kémia területén is széles körben alkalmazzák. A vegyi gyártás során a maszklemezek mikron szintű precíziós gyártást, kiváló minőségű kompozit anyagok, kémiai reagensek és gyógyszerészeti termékek és egyéb termékek gyártása jelentős mértékben hozzájárult a vegyipar fejlődéséhez.


Összefoglalva, a maszklemezek alkalmazási köre az optikai iparban nagyon széles, és mikron szintű gyártási pontosságot érhet el, ami elősegíti az optikai ipar magas színvonalú fejlődését. A tudomány és a technológia folyamatos fejlődésével a maszktechnológiát is folyamatosan frissítik és fejlesztik, szélesebb fejlődési teret biztosítva az optikai ipar jövőbeli fejlődéséhez.


Funkció:

termék neve Pontosság (um) anyag Szín
fotómaszk ±1 Üveg/kvarc átlátszó
fotómaszk ±0,5 Üveg/kvarc átlátszó
fotómaszk ±0,15 Üveg/kvarc átlátszó
fotómaszk ±0,3 Üveg/kvarc átlátszó



Csak néhány termék jelenik meg a táblázatban, ha más termékekre van szüksége,

fordulhat az ügyfélszolgálathoz


Üveg fotomaszkos litográfiai termékek fizikai megjelenítése

készítés folyamata:

(1) Rajzoljon egy maszkirányító elrendezési fájlt (GDS formátum), amelyet a generáló eszköz felismer

2) Használjon maszk nélküli litográfiai gépet az elrendezési fájl beolvasásához, végezzen érintkezésmentes expozíciót (405 nm-es expozíciós hullámhossz) az üres irányzékon ragasztóval, és világítsa meg az irányzékon a szükséges mintaterületet, hogy ezen a területen fotoreziszt legyen. (általában pozitív ragasztó) fotokémiai reakción megy keresztül

3) Az előhívás és rögzítés után a fényreziszt a megvilágított területen feloldódik és leesik, szabaddá téve az alatta lévő krómréteget

4) Nedves maratáshoz használjon króm maratóoldatot, maratja le a kitett krómréteget, hogy fényáteresztő területet képezzen, és a fotoreziszt által védett krómréteg nem lesz maratva, átlátszatlan területet képezve. Ily módon különböző fényáteresztő képességű síkmintázatú struktúrák jönnek létre az irányzékon.

5) Ha szükséges, nedves vagy száraz módszerekkel távolítsa el a fényvédő réteget az irányzékon, és tisztítsa meg az irányzékot.

Bizonyítvány




Hot Tags: 4 hüvelykes fotómaszk, Kína, gyártó, szállító, alacsony ár, gyári, előkelő, olcsó, minőség
Kérdés küldése
Elérhetőségei
A Machine Vision kalibrációs táblával, az optikai üvegvonalzóval, a fotómaszkkal vagy az árlistával kapcsolatos kérdéseivel kapcsolatban kérjük, hagyja nekünk e-mail-címét, és 24 órán belül felvesszük Önnel a kapcsolatot.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept